Intel Foundry y ASML colaboran para la adopción de la litografía EUV High-NA
Esta semana, en la conferencia SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography, Intel Foundry y ASML destacaron los continuos avances para llevar a producción la litografía ultravioleta extrema (EUV) de alta apertura numérica (High-NA) y el desarrollo de las tecnologíasLeer más »Intel Foundry y ASML colaboran para la adopción de la litografía EUV High-NA